CasaXPS - 图谱分析软件
CasaXPS · Surface Analysis Software
CasaXPS 图谱分析软件
面向 X 射线光电子能谱（XPS）及相关表面分析数据的图谱处理、峰模型拟合、定量分析与结果展示。
把图谱处理与表面化学信息解释衔接起来。
CasaXPS 最初用于 XPS 和俄歇电子能谱（AES）数据，现也覆盖飞行时间二次离子质谱（ToF-SIMS）、动态 SIMS 等分析数据。软件提供背景处理、峰型与峰模型、定量计算、统计分解及 XPS 显微成像数据处理工具，可按具体实验数据选择分析方法。
核心分析能力
图谱背景处理
提供 Linear、Shirley、Tougaard 和 cubic-spline 等背景类型，可根据谱线及分析目标设置背景模型。
峰型与峰模型拟合
支持对称及非对称峰型，包括 Doniach–Sunjic、Voigt、GL 等形式；可构建峰模型，开展化学态相关谱线分析。
XPS 定量计算
支持包含透射函数校正的定量流程，并提供相对灵敏度因子（RSF）库管理及定量结果查看。
可配置定量报告
可按分析目的配置定量报告内容，将谱线、计算结果与相关参数组织为输出信息。
PCA 与线性最小二乘分解
提供主成分分析（PCA）和线性最小二乘（LLS）方法，用于分析一组变化的谱图；可用于深度剖析、角分辨数据等研究任务。
XPS 图像数据处理
支持 XPS 谱显微成像数据处理，使图谱分析方法可延伸到空间分布数据的观察与解释。
图谱与软件界面
适用场景
表面元素与化学态分析
结合窄区谱线、背景与峰模型，分析材料表面元素及其化学态相关信息。
薄膜与界面研究
处理深度剖析或角分辨 XPS 等数据，用于观察不同采集条件下的谱线变化。
复杂谱组统计分析
使用 PCA 与 LLS 观察一组演变的谱图，辅助比较样品或实验阶段之间的差异。
XPS 显微成像
对 XPS 成像数据开展处理与定量展示，观察材料表面的空间分布特征。
运行与授权说明
CasaXPS 提供面向 64 位 Windows PC 的下载包。安装时，程序文件与配套配置文件需保存在可读写的同一目录中；具体环境与安装方法应按交付时提供的安装说明核对。
软件可在未配置许可证时以演示模式运行，但演示模式不允许将分析结果保存为文件。正式使用需选择相应授权；官网列有单用户授权与站点授权等方案。
服务支持
可提供 CasaXPS 正版授权采购、许可方案咨询、部署建议与售后技术支持服务。
采购说明
授权方案可能因学术或商业用途、用户数量及站点范围等因素不同而变化。如需报价，请以双方确认的实际方案与成交价格为准。
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